Maska przemysłowa kapturowa MP-6 powstała w celu zwiększenia ochrony głowy użytkownika, poprawienia szczelności. W tamtych latach widoczny był trend opierania maski twarzowej oraz kapturowej na istniejącej komorze zaworów - tutaj na komorze od Ma-1. Schemat ten potwierdzają późniejsze maski - MC-1 i MK-221. Podobny schemat został wykorzystany do stworzenia MG-6P do aparatów tlenowych oraz MG-6 do aparatów ucieczkowych, maski kapturowe bowiem były łatwiejsze do zakładania (pod warunkiem odpowiednio dobranego rozmiaru), prostsze w czyszczeniu (nie posiadały materiałowych nagłowi, skórzanych obrzeż, które należało wysuszyć) i przede wszystkim bardzo trudne do rozszczelnienia. Poza tym wszystkie te modele używały tych samych części twarzowych, a więc znacznie ułatwiało i ujednolicało to produkcję.